富士フイルムは３０日、静岡県吉田町と大分市の拠点で、極端紫外線（ＥＵＶ）向けフォトレジストなどの先端半導体材料の開発や生産、品質評価などの設備を増強すると発表した。総額約２００億円を投じ、両拠点で新棟を建設する。人工知能（ＡＩ）の普及などで需要が伸びる高性能な半導体向けの材料の供給能力を高める。
富士フイルムの看板（ＡＦＰ時事）
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